תהליך הפקדת אדים כימיים

תהליך הדחה כימית

התהליך בתצהיר האדים הכימי מחולק לשלושה שלבים חשובים: גז התגובה מתפזר לפני השטח של המצע, גז התגובה סופח על פני המצע, תגובה כימית מתרחשת על פני המצע ליצירת מרבץ מוצק, ותוצרי הלוואי של שלב הגז מתנתקים משטח המצע. התגובות בתצהיר האדים הכימיים הנפוצות ביותר הן: תגובות פירוק תרמי, תגובות סינתזה כימית, ותגובות הובלה כימיות. בדרך כלל מופקדת TiC או TiN על ידי החדרת TiCl4, H2, CH4 וגזים אחרים לתא התגובה בטמפרטורה של 850 ~ 1100 ℃, ויצירת ציפוי על פני המצע באמצעות תגובה כימית.